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仪器设备基本信息

  • 设备名称:光学浮区单晶生长炉
  • 仪器型号:FI-T-4000-H-VI-VPO-PC-CI
  • 所属单位:中国科学院长春应用化学研究所
  • 所属类别:仪器
  • 设备原值:37.8405 万元
  • 制造厂商:英国Applied PhotoPhysics公司
  • 生产国别:英国
  • 购置日期:
  • 当前状态:对外服务

仪器设备详细指标

主要技术指标 最高温度 2100°C,生长速度 0.18 ?18 mm/hr,最大压力 9.5 atms,最大真空度5×10-5 torr
功能/应用范围 "光学浮区法制备晶体,具有可制备高熔点材料、生长速度快且生长过程中容易观察等优势,可用于各种金属、非金属材料的定向凝固及其单晶材料的制备,特别在易污染或不能用提拉法制备的晶体中具有优势。可实现熔剂移动的方式,适用于生长非共熔材料和不均匀组分固熔体材料。 "
服务领域 ,石油/石化,食品/烟草,钢铁/有色金属,化工/化纤
技术特色

服务状况及收费标准

对外服务
(平均时机/年)
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收费标准
(元/样品)
面议

联系方式

联系人 武晓杰
联系电话 13504328433